配信メッセージ

From: エレクトロニクス実装学会 <kouken3@jiep.or.jp>
日付: 2017年09月08日 13時50分
件名: 【JIEP】OPT公開研究会「次世代の大容量通信・高密度実装を支える光接続技術」のご案内

<<< JIEPからのご案内 <<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<<

お世話になっております。(一社)エレクトロニクス実装学会です。
光回路実装技術研究会 公開研究会のご案内です。

☆学会ホームページ http://jiep.or.jp/
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  光回路実装技術研究会(エレクトロニクス実装学会 光回路実装技術委員会)
     第65回 OPT (Optical Packaging Technology) 公開研究会

       次世代の大容量通信・高密度実装を支える光接続技術

     https://web.jiep.or.jp/seminar/tcwg/tc17_opt20171023/

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◆開催趣旨
 IoT技術の発展や5Gの商用サービスを控え,光通信ネットワークには一層の大容
量化が求められています。光ファイバによる伝送容量の物理限界を打破するため,
マルチコアファイバやヒューモードファイバを用いた高密度空間分割多重技術が
注目されており,そこでは従来とは異なる大規模・高密度な光接続技術がキーと
なります。また,光信号の送受を担う光モジュールでは,Siフォトニクスを用いた
小型化・高密度化が期待されているものの,未だ光インタフェースの決定的方法が
確立しておらず,その普及拡大へ向けてSi導波路と光ファイバとの新たな光接続技
術が求められています。
 そこで、今回は,「次世代の大容量通信・高密度実装を支える光接続技術」を
テーマとしたプログラムを企画しました。本分野の研究開発の第一線で活躍されて
おられる講師の方々より,最新の技術動向や研究開発状況についてご講演いただき
ます。講演終了後には,ポスターを見ながらのオーサーインタビューの時間を設け
ておりますので,ご参加いただいた皆様・講師の方々との活発な議論・意見交換の
場となることを期待しております。是非この機会に,新しい光回路実装技術の動向
を把握するためにも当研究会へご参加下さい。

◆テ ー マ: 次世代の大容量通信・高密度実装を支える光接続技術

◆主  催: 光回路実装技術研究会
       ((一社)エレクトロニクス実装学会 光回路実装技術委員会)

◆開催日時: 2017年10月23日(月)13:30~17:30(13:00~受付開始)

◆会  場: エレクトロニクス実装学会 会議室(回路会館 地下1階)
JR中央線西荻窪駅下車徒歩約7分
       〒167-0042  東京都杉並区西荻北3-12-2 TEL. 03-5310-2010
       地図 → https://web.jiep.or.jp/about/access.html

◆プログラム:
 13:30-14:15 『SDMシステム用光接続部品の技術動向』
            長瀬 亮 教授 (千葉工業大学)

        【要旨】軸ずれと回転角度ずれ双方に高い位置決め精度が求めら
         れるマルチコアファイバ(MCF)用光コネクタを実現するため
         には、新たな構造が必要である。本講演ではMCFコネクタおよ
         びファンアウト部品の技術動向について紹介する。

 14:15-15:00 『MCFを用いた256コアMTコネクタと96コアPC接続MPOコネクタの
         実現』
            森島 哲 氏 (住友電気工業株式会社)

        【要旨】データセンターでの情報処理量増加と共に、高密度光コ
         ネクタへの需要が高まっている。今回、本需要に応える超高密
         度256コアMTコネクタや96コアMPOコネクタなど、MCFを用いた
         各種接続技術について報告する。

 15:00-15:10 休憩

 15:10-15:55 『シリコンフォトニクスの光実装技術』
            平 洋一 教授 (慶應義塾大学)

        【要旨】光トランシーバーの要素技術としてシリコンフォトニク
         スが注目されている。シリコン細線導波路を用いれば高い集積
         度の光送受信器部品をシリコン基板上に作成できる。シリコン
         基板を用いる作成プロセスは、CMOS半導体作成プロセスと
         親和性がよく、低コストで送受信機を実現できると期待される。
         しかしながら、シリコンチップ上の光信号を解部と接続するた
         めには光実装技術の工夫が必要である。そこでこれまで用いら
         れているシリコンフォトニクスの光実装技術を概観し、それぞ
         れの方式の特徴、課題、解決策について議論する。

 15:55-16:40 『エレファントカプラの進展』
            榊原 陽一 氏 (産業技術総合研究所)

        【要旨】シリコン導波路の先端を立体湾曲加工した表面光結合器
         (エレファントカプラ)は、入射角度依存性や波長依存性の小
         さい光入出力が実現できる。最近モード径5umの光ファイバと
         高効率結合可能な構造を実現できたので紹介する。

 16:40-17:30 自由討論 (パネルを用いた自由討論・情報交換)

    ※プログラム及び発表順序は変更になることがあります。ご了承下さい。

◆参 加 費: (予稿集代、消費税込み)
                   正会員: 5,000円
                  学生会員: 1,000円
                 シニア会員: 1,000円
               賛助会員の社員: 5,000円
       賛助会員の社員(クーポン使用): 無料
                   非会員:10,000円
            非会員学生(資料あり): 3,000円
            非会員学生(資料なし): 1,000円

        注: 賛助会員のクーポンが使用できます。
           使用にあたっては、必要事項を記入して持参して下さい。
           クーポンは1枚/1口ですので、1口当たり2枚以上は使用
           できません。
        注: 会費は当日に受付にて現金でお支払い下さい。
           領収書を発行します。
           つり銭のないようにご準備をお願いします。

◆定  員: 100名 (先着順)

◆申込期限: 2017年10月23日(月)10時まで

◆申込方法: 参加申込は こちら↓
         https://web.jiep.or.jp/seminar/tcwg/tc17_opt20171023/

        登録されますと参加票が返信されます。
        受講票をプリントアウトして当日お持ちください。

         ★申し込みをキャンセルされる場合は下記URLへ↓
         https://web.jiep.or.jp/seminar/edit/tc17_opt20171023/
         ※ 申し込み完了メールに記載のアクセスコードが必要です。

◆問い合せ: opt-kennkyukai@jiep.or.jp

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