From: エレクトロニクス実装学会 <kouken3@jiep.or.jp>
日付: 2017年11月08日 08時06分
件名: 11/16開催【JIEP】「マイクロメカトロニクス実装技術研究会] 平成29年度 第1回公開研究会のご案内
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JIEPマイクロメカトロニクス実装技術研究会
平成27年度 第1回公開研究会のご案内
＜ナノインプリントの最新動向と大面積デバイス、実装応用への挑戦＞
マイクロメカトロニクス実装技術研究会
主査 高木秀樹（産業技術総合研究所）
◆開催趣旨
ナノインプリント技術は、光リソグラフィーの限界を大きく超える可能性をもつ
微細パターン形成法として大きな注目を集め、活発に研究開発が進められました。
技術が提唱されて20年が経過しようとする現在、ナノインプリント技術の半導体
製造プロセスへの適用が視野に入るとともに、大面積へのナノ構造形成方法とし
ても新たな発展を見せています。
当研究会では、ナノインプリント技術とその実装への応用に関して、主要なテーマ
の一つとして取り組んできました。
今回は、ナノインプリント技術の基礎的な部分から、最近の技術動向までをご紹介
いただきます。微細化の開発状況に加えて、大面積でのパターン形成とそのための
モールド作製技術や、ポリイミドの微細成形と実装配線への適用可能性についても
ご紹介いただきます。
皆さまの積極的なご参加をお待ちしております。
◆開催日時： 平成29年11月16日(木)〈13:30〜17:10〉
◆会 場 ： 回路会館 地下1階会議室
ＪＲ中央線西荻窪駅下車徒歩約７分
〒167-0042 東京都杉並区西荻北3-12-2
地図 → https://web.jiep.or.jp/about/access.html
◆テーマ：ナノインプリントの最新動向と大面積デバイスへの挑戦
◆プログラム
○13:00 受付開始
○13:30 開会挨拶（高木 秀樹 主査）
○13:35〜14:35
「ナノインプリント技術の進展」
産業技術総合研究所 廣島 洋
○14:35〜15:20
「MRT社(ドイツ)のナノインプリント用樹脂の開発状況」
株式会社エイチ・ティー・エル 大久保 靖
（15:20〜15:30 休憩）
○15:30〜16:15
「ナノインプリント用モールドと超撥水フィルムへの展開」
綜研化学株式会社 坂田 郁美
○16:15〜17:00
「ナノインプリント技術の配線応用に向けたプロセスとモールド設計」
産業技術総合研究所 尹 成圓
○17:00〜17:10 フリーディスカッション
○17:10〜18:00 技術交流会（名刺交換、情報交換等）
注1）プログラムは変更になることがあります。ご了承ください。
◆定 員： 100名（先着申し込み順 定員になり次第締め切ります）
〈参加申し込みは当日まで受け付けますが、予稿集などの準備の
関係上、事前登録にご協力をお願いします。〉
参加者の皆様にはご名刺を頂戴いたしますので、ご用意ください。
ご名刺がない場合には、ご記帳いただきます。
◆参加費：（予稿集代込み、消費税込み）
正会員： 5,000円
学生会員：1，000円（学生証を受付で提示してください）
シニア会員： 3,000円
名誉会員： 1,000円
賛助会員： 5,000円（無料クーポン券使用可 注参照）
非会員： 10,000円
非会員学生： 3,000円（学生証を受付で提示してください）
注１） 参加費は当日受付で徴収します。
つり銭の無いようご準備をお願いします。
注２） 賛助会員クーポン券は1枚まで利用可能。
注３） 交流会参加は無料ですが、準備の都合上、出欠予定を申込画面の所定欄にご
入力ください。
◆申込方法：参加申し込みはこちら↓
https://web.jiep.or.jp/seminar/tcwg/tc18_mems20171116/
登録されますと参加登録完了メールが返信されます。
申し込みをキャンセルされる場合は、参加登録完了メールに記載のキャ
ンセル用URLから入力ください。
◆問合せ先：エレクトロニクス実装学会
マイクロメカトロニクス実装技術研究会
mems_kanji@jiep.or.jp
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